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產(chǎn)品資料
反應離子刻蝕機
簡介：

Trion創(chuàng)建于1989年,是一家反應離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商 Trion為化合物半導體、MEMS（微機電系統(tǒng)）、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。 產(chǎn)品占地面積小、成本低，可靠穩(wěn)定。
產(chǎn)品詳情

Phantom III反應離子刻蝕系統(tǒng)

可適用于單個基片、碎片或帶承片盤的基片300mm尺寸，為實驗室和試制線生產(chǎn)提供可靠的等離子刻蝕能力。

系統(tǒng)有多達七種工藝氣體可以用于刻蝕氮化物、氧化物以及需要氟基化學刻蝕的薄膜或基片（如碳、環(huán)氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢以及鎢鈦）。該設備還可以用于去除光刻膠和有機材料。可選配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。
該工具可選配一個電感耦合等離子(ICP)源。ICP使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能
通過打開室蓋，直接將基片裝入工藝室
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